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什麽是PVD真空電鍍,都有哪些工藝?
來源: | 發布日期:2022-02-18

現如今產品91香蕉APP成人污在线看已經成為了潮流,給產品91香蕉APP成人污在线看的方法也是眾多,如:化學浸鍍、電鍍、噴塗導電塗料、真空蒸鍍、陰極濺鍍、離子鍍、燙金、熔化噴塗等,其中PVD真空電鍍是我今天要說的重點了。

PVD真空電鍍:是在高度真空條件下加熱金屬熔化蒸發,冷卻後在被鍍產品表麵形成金屬膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。

PVD真空電鍍

加熱金屬的方法:使用電阻產生的熱能和電子束。在蒸發產品時,必須調整蒸發時間,以確保金屬冷卻過程中釋放的熱量不會使產品本身變形。此外,熔點和沸點過高的金屬或合金不適合蒸發鍍。在真空室鍍金屬製品,采用一定的方法加熱鍍材料,使金屬蒸發或升華,冷產品表麵的金屬蒸汽凝結成金屬薄膜。在真空條件下,可以減少蒸發材料的原子和分子在飛向產品的過程中與其他分子產生碰撞,減少氣體中活性分子與蒸發源材料之間的化學反應(如氧化),從而提供薄膜的密度、純度、沉積速率和附著力。

PVD真空電鍍硬性要求成膜室內壓力等於或低於10-2Pa,對於蒸發源、被鍍產品和薄膜質量要求較高的場合,壓力較低(10-5Pa)。塗層厚度一般在0.04-0.1um,若低於0.04um則太薄,反射率低;高於0.1um則太厚,附著力差,容易脫落。

以上就是PVD真空電鍍,如想了解工藝中更多的細節及注意事項,歡迎致電18018743855

【本文標簽】 PVD真空電鍍

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