磁控濺射真空鍍是物理氣相沉中的一種，也是在密閉空間，真空爐內形成的膜層。它在爐體內,肉眼看不到的原子是如何運動、膜層是如何形成的呢？請接著往下看。

磁控濺射真空鍍在爐體內，氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉積在素材上形成薄膜。二次電子加速飛向素材的過程中，受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶麵的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶麵作圓周運動，該電子的運動路徑變長，在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子轟擊靶材，經過多次碰撞後電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，最終被陽極吸收在素材上形成膜層。

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